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Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统 Quantum X的核心是Nanoscribe独jia专li的双光子灰度光刻技术（2GL?）。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。
详细介绍
Nanoscribe工业级高速灰度光刻微纳打印系统 - Quantum X
德国Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博会展 LASER World of Photonics上发布了全新工业级双光子灰度光刻微纳打印系统 Quantum X ，并荣获创新奖。该系统是世界first基于双光子灰度光刻技术（2GL?）的精密加工微纳米打印系统，可应用于折射和衍射微光学。该系统的面世代表着Nanoscribe已进军现代微加工工业领域。具有全自动化系统的Quantum X无论从外形或者使用体验上都更符合现代工业需求。
Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统技术要点
这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到准同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的性能与双光子聚合的jing确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，*设计自由度和超高精度的特点。从而满足了复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的*要求。
高速灰度光刻https://www.chem17.com/st425611/product_33244044.html
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高速灰度光刻